开门网资讯:近日,FinFET技术发明人、FD-SOI工艺发明人、国际微电子学家胡正明教授接受了媒体的采访,胡教授表示:“半导体的发展并没有进入尾声,事实上它还有一百年的荣景在。全世界需要越来越多的智慧器件,除半导体外,目前还看不到有其他技术能够提供这些智慧器件。即便在磁和光的方向有突破,我相信新的技术也会被半导体产业并购并加以吸收。因为只有半导体有这样的资本,将新技术制造、设计和推广的能力,小的突破是很容易被大的产业吸收的。”
关于制程工艺在5nm时将接近半导体的物理极限,是否能够再缩小下去的疑问,胡教授表示:5nm指的是线宽问题,这个数值未必代表着极限。但就物理极限本身来说,我们要接受“物理极限”的客观存在,至于会不会是5nm节点很难说。
一方面,我们总有办法将半导体工艺的发展往前推; 另一方面,5nm的意义已经不够清晰。
在以往的技术中,我们可以通过测量线宽的方式去直观的理解。但当工艺技术走进14nm、10nm、7nm,线宽已然成为了一个标签,到底有多小,是不是真的有条线在那里,会不会有比5更小的值出现我们不知道。但不可否认的是,想要把芯片的尺寸做小是有一定极限的,至于谁先跑到极限,这不是我们该思考的问题。
此外,胡教授鼓励半导体从业人员保持信心,他说道:“产业的进步需要我们通过不断的改进,过去五十年是这样走过来的,相信未来五十年也会这样走下去。”
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