开门网资讯：近日，FinFET技术发明人、FD-SOI工艺发明人、国际微电子学家胡正明教授接受了媒体的采访，胡教授表示：“半导体的发展并没有进入尾声，事实上它还有一百年的荣景在。全世界需要越来越多的智慧器件，除半导体外，目前还看不到有其他技术能够提供这些智慧器件。即便在磁和光的方向有突破，我相信新的技术也会被半导体产业并购并加以吸收。因为只有半导体有这样的资本，将新技术制造、设计和推广的能力，小的突破是很容易被大的产业吸收的。”
关于制程工艺在5nm时将接近半导体的物理极限，是否能够再缩小下去的疑问，胡教授表示：5nm指的是线宽问题，这个数值未必代表着极限。但就物理极限本身来说，我们要接受“物理极限”的客观存在，至于会不会是5nm节点很难说。
一方面，我们总有办法将半导体工艺的发展往前推； 另一方面，5nm的意义已经不够清晰。
在以往的技术中，我们可以通过测量线宽的方式去直观的理解。但当工艺技术走进14nm、10nm、7nm，线宽已然成为了一个标签，到底有多小，是不是真的有条线在那里，会不会有比5更小的值出现我们不知道。但不可否认的是，想要把芯片的尺寸做小是有一定极限的，至于谁先跑到极限，这不是我们该思考的问题。
此外，胡教授鼓励半导体从业人员保持信心，他说道：“产业的进步需要我们通过不断的改进，过去五十年是这样走过来的，相信未来五十年也会这样走下去。”
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